Японские компании Canon и Dai Nippon Printing (DNP) представили технологию для производства передовых чипов без использования дорогостоящей EUV-литографии. Она позволит создавать 1,4-нм полупроводники, снизив расход электроэнергии на 90%, сообщает Nikkei Asian Review. Оборудование для нанопечати стоит около $6,4 млн, что в десятки раз меньше цены установок лидеров рынка.
Осенью 2023 года Canon отправила первую установку для нанопечати на изучение специалистам Intel. По замыслу компании, эта технология удешевит производство 5-нм чипов. DNP разработала ключевой расходный материал — специализированные матрицы для формирования рисунка на кремниевых пластинах. Массовый выпуск этих материалов планируется наладить к 2027 году. В комбинации с оборудованием Canon они и позволят создавать 1,4-нм чипы.
«Строго говоря, и сама установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что в десятки раз меньше стоимости передового сканера ASML для изготовления 2-нм и более совершенной продукции», — отмечает Nikkei Asian Review.
Традиционная литография, по данным японских источников, определяет от 30 до 50% себестоимости чипов. Помимо Intel, интерес к технологии проявляют Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia. Однако их производства заточены под классическую фотолитографию, и масштабная перестройка требует полной уверенности в перспективности нанопечати.
Ранее «Жуковский.Life» сообщал, как крупные производители влияют на рынок полупроводников, регулируя предложение. Samsung и SK hynix, обеспечивающие около 70% мирового выпуска DRAM, объявили о стратегии долгосрочной прибыльности вместо борьбы с дефицитом. Компании намеренно ограничивают расширение производства, чтобы сохранить высокие цены. Samsung подтвердила курс на «минимизацию риска переизбытка», а SK hynix заявила о стратегии постепенного повышения контрактных цен.